DB-FIB

Con el rápido avance de la electrónica de semiconductores y las tecnologías de circuitos integrados, la creciente complejidad de las estructuras de dispositivos y circuitos ha aumentado los requisitos para el diagnóstico de procesos de chips microelectrónicos, el análisis de fallas y la fabricación micro/nano.El sistema FIB-SEM de doble haz, con sus potentes capacidades de mecanizado de precisión y análisis microscópico, se ha vuelto indispensable en el diseño y la fabricación microelectrónica.

El sistema FIB-SEM de doble hazIntegra un haz de iones enfocado (FIB) y un microscopio electrónico de barrido (MEB). Permite la observación en tiempo real mediante MEB de procesos de micromecanizado basados ​​en FIB, combinando la alta resolución espacial del haz de electrones con la precisión del haz de iones en el procesamiento de materiales.